I.    Wytwarzanie nanostruktur z wykorzystaniem litografii SEM

• Przygotowanie substratu do wypalania struktury (1h)
• Wykorzystanie modułu litograficznego SEM do wypalania nanostruktury w naniesionej wcześniej warstwie polimerowej (5h)
• Naparowanie metalu (magnetycznego lub niemagnetycznego) (0.5h)
• Obrazowanie naniesionej struktury wykorzystując mikroskopię AFM (MFM) lub SEM (3.5h)

II.    Wytwarzanie nanostruktur z wykorzystaniem fotolitografii

• Przygotowanie substratu do wypalania struktury (1h)
• Naświetlenie przygotowanego podłoża wykorzystując stanowisko do  fotolitografii (3h)
• Naparowanie metalu (magnetycznego lub niemagnetycznego) (0.5h)
• Obrazowanie naniesionej struktury wykorzystując mikroskopię AFM (MFM) lub SEM (3.5h)

III.    Wytwarzanie nanostruktur z wykorzystaniem FIB

(4h) oraz obrazowanie tejże struktury wykorzystując mikroskopię AFM  lub SEM (3.5h).