Wprowadzenie do technik analizy powierzchni w warunkach ultra-wysokiej próżni (Ultra-High Vacuum – UHV) na przykładzie próbki Si (111)

I. Ogólne omówienie układu Multiprobe Surface Science System produkcji Omicron NanoTechnology

• czas: 2h
• budowa i elementy składowe układu
• zasady uzyskiwania i podtrzymywania ultra-wysokiej próżni
• techniki preparatyki próbek – nanoszenie warstw, trawienie jonowe, obróbka
• termiczna oraz wiązkami atomowymi tlenu i wodoru
• techniki badawcze – STM/S (Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy),
• AFM (Atomic Force Microscopy), XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy),
• UPS (Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy), AES (Auger Electron Spectroscopy)

II. Przygotowanie próbki Si (111) do badań w warunkach UHV

• czas: 2h
• prezentacja układu transferu próbek – przygotowanie próbki do wygrzewania
• wygrzewanie Si (111) w celu oczyszczenia powierzchni i utworzenia rekonstrukcji  powierzchniowej – tzw. „flashing”

III. Pomiar XPS (szacowany czas: 2h)

• czas: 2h
• omówienie i prezentacja metody
• widma Si (111) przy użyciu różnych źródeł promieniowania X

 IV. Pomiar STM/S

• czas: 4h
• omówienie i prezentacja metody
• topografia powierzchni Si (111) z rozdzielczością atomową – rekonstrukcja 7x7
• charakterystyki I-V przy użyciu STS
• obrazowanie CITS (Current Imaging Tunneling Spectroscopy)