Pracownia Mikroskopii Skaningowej

Prowadzący: 

 

Wprowadzenie do technik analizy powierzchni w warunkach ultra-wysokiej próżni (Ultra-High Vacuum – UHV) na przykładzie próbki Si (111)

 

I. Ogólne omówienie układu Multiprobe Surface Science System produkcji Omicron NanoTechnology

  • czas: 2h
  • budowa i elementy składowe układu
  • zasady uzyskiwania i podtrzymywania ultra-wysokiej próżni
  • techniki preparatyki próbek – nanoszenie warstw, trawienie jonowe, obróbka
  • termiczna oraz wiązkami atomowymi tlenu i wodoru
  • techniki badawcze – STM/S (Scanning Tunneling Microscopy/Spectroscopy),
  • AFM (Atomic Force Microscopy), XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy),
  • UPS (Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy), AES (Auger Electron Spectroscopy)
 

II. Przygotowanie próbki Si (111) do badań w warunkach UHV

  • czas: 2h
  • prezentacja układu transferu próbek – przygotowanie próbki do wygrzewania
  • wygrzewanie Si (111) w celu oczyszczenia powierzchni i utworzenia rekonstrukcji  powierzchniowej – tzw. „flashing”
 

III. Pomiar XPS (szacowany czas: 2h)

  • czas: 2h
  • omówienie i prezentacja metody
  • widma Si (111) przy użyciu różnych źródeł promieniowania X
 

 IV. Pomiar STM/S

  • czas: 4h
  • omówienie i prezentacja metody
  • topografia powierzchni Si (111) z rozdzielczością atomową – rekonstrukcja 7x7
  • charakterystyki I-V przy użyciu STS
  • obrazowanie CITS (Current Imaging Tunneling Spectroscopy)

Kontakt | Baza kontaktów | RSS | Login
© 2017 CENTRUM NANOBIOMEDYCZNE UAM | ul. Umultowska 85, PL61614 Poznań, Poland | tel.+48 61 829 67 04.

Developed by drupalninja.pl