Jesteś tutaj

Laboratorium Cleanroom


Laboratorium Cleanroom jest zaprojektowane i utrzymywane w standardach zgodnych z normami: ISO 14644-1: 1999, ISO 14644-1: 2015 oraz EU GMP (Guide to Good Manufacturing Practise).

Oprócz niżej wymienionych elementów wyposażenia laboratoryjnego, istotnymi pomieszczeniami laboratorium Cleanroom CNBM są również: szatnia (pom. 0/6d), korytarz "czysty" (pom. 0/6f), korytarze "brudne" (pom. 0/6g oraz 0/6h, pełniące funkcję zaplecza technicznego z zaopatrzeniem w niezbędne media) oraz śluzy: dwie ciśnieniowe i jedna rotacyjna (niezbędne do prawidłowego obiegu powietrza między strefami czystymi, regulacji ciśnień roboczych oraz zapewnienia odpowiedniego reżimu sanitarnego i sterylnego).
 

Cleanroom A (pom. 0/6a)

Zaprojektowany dla klasy ISO3 (1000 N/m3 cząstek wielkości 0.1um)

Wysokopróżniowa maszyna do naparowywania materiałów

  • Dwie komory wzrostu do osadzania warstw metalicznych magnetycznych/niemagnetycznych z systemem 
     load-lock
  • System próżniowy z pompami kriogenicznymi (< 5x10-9 mbar)
  • Działo elektronowe (Telemark, 6 tygli x 7 cm3)
  • Działo jonowe (Tectra) do czyszczenia podłoży przed naparowaniem
  • Manipulator UHV 
    • średnica płytek: 0,2” – 4” (różne kształty)
    • kąt nachylenia podłoże-źródło par: +/- 50°
    • regulowana szybkość obrotu podłoża
    • rozdzielczość obrotu nośnika: 1°
  • Miernik grubości i układ pomiaru szybkości naparowywania
 

Mikroskop sił atomowych Innova Bruker

Zakres skanowania XY do 90 µm2, Z=7.5 µm, i 5 µm2 Z=1.5 µm, unikatowy optoelektroniczny system Closed-Loop stabilizujący pracę skanera przy utrzymaniu niskiego poziomu szumów, rozdzielczość atomowa.  
Dostępne tryby pracy: Contact Mode (w powietrzu), Tapping Mode (w powietrzu), PhaseImaging, Lift Mode, Magnetic Force Microscopy (MFM), Electrostatic Force Microscopy (EFM), Dark Lift, Lateral Force, Microscopy, Nano-Indentation, Scanning Tunneling Microscopy STM, Low Current STM, Conductive AFM, STM with EC, Contact and Tapping Modes with EC, Surface Potential, Piezoresponse, Scanning Capacitance, Force Modulation.

Cleanroom B (pom. 0/6b)

Zaprojektowany dla klasy ISO3 (1000 N/m3 cząstek wielkości 0.1um)

Reaktor do osadzania warstw o grubości atomowej

  • Komora reakcyjna „top-flow” (jednolity, pionowy przepływ gazu ortogonalny do podłoża), zintegrowana w komorze próżniowej, podgrzewana
  • Źródła prekursorów
    • dla prekursorów gazowych
    • dla prekursorów cieczowych
    • dla prekursorów ciecz/gaz podgrzewane do 300°C
  • Maksymalna temperatura procesu: 500°C
  • Wymiar wafli: do 200 mm x 10 mm
  • Podłoża 3D: do 150 mm x 120 mm
  • Gazy nośne: azot, argon
  • System załadowczy load-lock
 

Maszyna do trawienia jonowego

  • Układ RIE do obróbki jonowej podłoży krzemowych o średnicy do 200 mm
  • Komora załadowcza z systemem transferu próbek
  • Zmiennoprądowe (RF) źródło plazmy z górna i dolną elektrodą w konfiguracji równoległej. Generator plazmy: częstotliwość 13.56 MHz, 600 W
  • Linie gazowe: Ar, O2, SF6, CHF3
  • System pompowy: pompa próżni wstępnej, pompa turbomolekularna
  • Układ do prowadzenia procesu skierowanego od góry w dół, wykorzystującego gazy robocze zawierające tlen, fluor lub chlor
  • Układ sterowania z procedurami trawienia materiałów zawierających krzem (Si, SiO2, Si3O4)
  • Jednorodność procesu trawienia: < +/- 3% na 100 mm podłożu
  • Powtarzalność procesu: < +/- 3% na 200 mm podłożu
  • Szybkość trawienia SiO2 > 0.1 µm/min
 

Cleanroom C (pom. 0/6c)

Zaprojektowany dla klasy ISO2 (100 N/m3 cząstek wielkości 0.1um)

Urządzenie do centrowania masek wraz z depozytorem rotacyjnym

  • Tryby naświetlania: bez maski, górne centrowane, zbliżeniowe (z regulacją szczeliny: 1-300 µm), 
    „soft-contact” (z regulacją ciśnienia: 0.1-40 N), „hard contact” (z regulacją ciśnienia), „vacuum contact” (z regulacją poziomu próżni)
  • Stolik do centrowania z precyzyjnym regulatorem
  • Mikroskop cyfrowy (podgląd od góry)
    • dwupolowy, manualny
    • kamera CCD o wysokiej zdolności rozdzielczej
    • 2 obiektywy (10x)
    • cyfrowy zoom (4x)
  •  System optyczny, źródło światła (NUV)
  •  Uchwyty do podłoży (Ø 100, 150 mm) i masek (Ø 125, 175 mm)
 

Cleanroom D 10000 (pom. 0/6e)

Zaprojektowany dla klasy ISO4 (10000 N/m3 cząstek wielkości 0.1um)

Maszyna do połączeń drutowych ultra i termo kompresyjnych typu 53xxBDA

  • Maszyna 53xx BDA może być używana jako ultradźwiękowy łącznik kulowo-klinowy do cienkich złotych drutów, po wybraniu wersji oprogramowania 5310, lub jako łącznik klinowo-klinowy głębokiej penetracji dla drutów aluminiowych i złotych, po wybraniu wersji oprogramowania 5332,
  • Specjalna konstrukcja głowicy klejącej. Zmiana z jednej opcji spajania na inną jest prostym procesem obejmującym jedynie szybką i łatwą wymianę drutu i narzędzia spajającego,
  • Gotowość do pracy po uruchomieniu odpowiedniego oprogramowania,
  • Możliwość łączenia drutów taśmowych o szerokości od 30 do 250 μm,
  • Temperatura pracy: 18-24,5°C,
  • Wilgotność względna: 45% +/- 10%, bez kondensacji,
  • Napięcie zasilania: 115 - 230 V AC,
  • Częstotliwość napięcia: 50 - 60 Hz,
  • Zainstalowane obciążenie: 230W,
  • Emisja hałasu: <70dBA,
  • Podciśnienie: <300 mbar (średnica zew. 6 mm).

Waga laboratoryjna OHAUS AX Adventurer AX223

  • Działka elementarna d: 0,001g.,
  • Max. zakres pomiarowy: 220g.,
  • Rozmiar szalki: 130mm.,
  • Kalibracja wewnętrzna: tak,
  • Czas stabilizacji: 2s.,
  • Kolorowy, graficzny, dotykowy wyświetlacz o przekątnej 4.3",
  • Szklana szafka przeciw-podmuchowa, kaskadowe boczne drzwiczki, górne prowadnice,
  • Stół wagowy antywibracyjny o wymiarach: 900x600x750mm z wibro-izolatorami i kamieniem granitowym o wymiarach: 400x400x50-60mm.

Kontakt | Baza kontaktów | RSS | Login
© 2021 CENTRUM NANOBIOMEDYCZNE UAM | ul. Wszechnicy Piastowskiej 3, PL 61614 Poznań, Poland | tel.+48 61 829 67 04.